shallow trench isolation製程
淺矽溝槽製程(ShadowTrenchIsolationProcess)正是做為半導體製程中隔離電晶體開與關的功能,但是在製造過程當中遇到缺陷(Defect)便會影響到產品的穩定 ...,由嚴永民著作·2011—ShallowTrenchIsolation(STI)techniquesareessentialforsemiconductordeviceforreducingel...
TWI508224B
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淺溝槽隔離(ShallowTrenchIsolation,STI)是一種常用於半導體製程中的隔離技術,可以防止相鄰半導體元件之間的漏電流(leakagecurrent)產生,還具有增加元件積集度( ...
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